중국산 침지식 DUV, 생산·검증 단계 진입

중국이 자체 개발한 침지식 심자외선(DUV) 노광장비의 생산에 착수하며 반도체 장비 자립을 위한 시험대에 올랐다. 상하이 국유기업 아이성나전자과기집단이 생산을 주도하며, 첫 장비는 올해 중신국제와 화홍반도체, 창신메모리 등에 공급될 예정이다. 계획된 생산량은 올해 약 5대, 2027년 약 20대로 파악된다.

아이성나는 2023년 8월 등록자본금 70억 위안, 약 1조4000억 원 규모로 설립됐다. 상하이전기홀딩과 상하이국제신탁 계열사가 주요 주주이며, 위량성과 상하이마이크로전자장비의 관련 연구개발 인력을 결집했다. 다만 ASML이 2025년 침지식 DUV 장비 131대를 출하한 것과 비교하면 생산 규모의 격차는 여전히 크다.

침지식 DUV는 193nm 파장의 불화아르곤 광원을 쓰고 렌즈와 웨이퍼 사이에 물을 채워 해상도를 높인다. 일반적으로 28nm급 공정에 활용되며 다중 패터닝을 적용하면 7nm 등 더 미세한 공정에도 사용할 수 있다. 미국이 최첨단 극자외선(EUV) 장비의 중국 수출을 제한하고 네덜란드도 일부 침지식 DUV 장비에 허가제를 적용하면서 중국 내 국산 대체 수요가 확대됐다.

중국 노광장비 시장은 2025년 197억3400만 위안으로 전년보다 10.4% 성장했다. 2026년 1~4월 반도체 제조용 분포반복식 노광장비 수입은 53대로 1.85% 줄었고, 수입액은 1억500만달러로 23.79% 감소했다. 중국산 장비가 생산과 고객사 검증 단계로 넘어갔다는 점은 의미가 있지만, 실제 팹에서 확보할 수율과 생산성, 장기 유지보수 및 부품 공급 능력은 추가 확인이 필요하다. DUV 양산은 EUV 기술 확보와는 구분되며, 당장의 ASML 대체보다 해외 장비 의존도와 공급 차질 위험을 낮추는 기반 구축에 무게가 실린다.