SK하이닉스 CIS 기술 유출 전 직원, 항소심도 실형

중국 기업으로 옮기기 위해 SK하이닉스의 첨단기술과 영업비밀을 빼돌린 전 직원 A씨가 항소심에서도 징역 1년 6개월을 선고받았다. 서울고법은 회사 내부 자료를 무단으로 외부에 유출하고 이를 부정하게 사용한 혐의를 유죄로 판단해 실형을 유지했다. 유출 대상에는 SK하이닉스가 보유한 CIS 관련 기술과 영업상 핵심 정보가 포함됐다.

A씨는 2022년 SK하이닉스 중국 현지법인에서 근무하며 자료를 반출한 것으로 조사됐다. 당시 중국 최대 통신장비업체 화웨이의 자회사 하이실리콘 등을 상대로 이직을 추진하며 제안을 받은 뒤 범행에 나선 것으로 드러났다. CIS는 CMOS 이미지센서의 약칭으로, 외부에서 들어온 빛을 디지털 신호로 바꾸는 반도체 소자다.

이번 사건에는 산업기술의 유출을 막는 산업기술보호법과 기업의 영업비밀 침해를 규율하는 부정경쟁방지법 위반 혐의 등이 적용됐다. 회사에서 취득한 정보를 개인의 이직에 이용해 기업에 손해를 끼친 행위와 관련해서는 업무상 배임 혐의도 다뤄졌다. 핵심 인력 영입과 기술 자료 반출이 맞물린 해외 유출 사건이라는 점이 재판 과정에서 중요한 판단 요소가 됐다.

항소심 재판부는 기술 침해 범죄에 관대한 처벌을 내릴 경우 기업이 연구개발에 집중할 유인이 약해질 수 있다고 지적했다. 해외 경쟁사가 인재 채용을 앞세워 국내 기업의 기술력을 손쉽게 가져가는 상황을 사실상 방치할 우려도 판결 이유에 담았다. 이번 실형 유지로 개인의 이직 과정에서 회사 기술과 영업비밀을 활용한 행위에 엄중한 책임을 묻는 사법부의 판단이 재확인됐다.